Ácido clorídrico de produtos químicos eletrônicos G4

Ácido clorídrico de produtos químicos eletrônicos G4

Revisão de Documento: 01
Data de emissão: 02/09/2026
Padrão aplicável: Grau SEMI G4 (Químico úmido semicondutor ultra-de alta pureza)

Identificação do Produto

 

Item

Especificação

Nome do produto

Ácido Clorídrico G4

Categoria de produto

Químico úmido eletrônico semicondutor

Nome Químico

Ácido clorídrico

Fórmula Química

HCl

Nº CAS

7647-01-0

Peso molecular

36.46

Número ONU

1789

Nota

SEMI G4 Ultra-grau eletrônico de alta pureza

 

Visão geral do produto

 

O ácido clorídrico G4 é um ácido inorgânico de alta-pureza especialmente purificado para fabricação de wafers semicondutores e fabricação de microeletrônica avançada. Produzido por meio de processos de ultra-purificação, filtragem de baixa{4}}contaminação e enchimento de-salas limpas, este produto apresenta íons metálicos com traços ultra-baixos, impurezas aniônicas e micro{7}}partículas, em total conformidade com as especificações do setor SEMI G4.


É um produto químico úmido essencial para processos frontais-de semicondutores, removendo com eficácia contaminantes metálicos, resíduos iônicos e impurezas de óxido em superfícies de wafer. O controle rigoroso de impurezas elimina riscos de micro{2}contaminação, garantindo alto rendimento e desempenho estável para processos avançados de fabricação de chips.


Aparência:Líquido incolor, transparente e límpido com leve odor pungente

 

Especificações Técnicas (Padrão SEMI G4)

 

Item de teste

Especificação

Ensaio de HCl

36,0 ~ 38,0% em peso

Aparência

Líquido transparente incolor e claro

Cor (APHA)

Menor ou igual a 10

Densidade a 20 graus

1,18 ~ 1,19g/cm³

Resíduo de Evaporação

Menor ou igual a 50 ppb

Metais traços individuais (Na, K, Ca, Mg, Fe, Cu, Al, Zn, Ni, Cr)

Menor ou igual a 10 ppb cada

Sulfato (SO₄²⁻)

Menor ou igual a 50 ppb

Nitrato (NO₃⁻)

Menor ou igual a 50 ppb

Cloro Livre (Cl₂)

Menor ou igual a 50 ppb

Fosfato (PO₄³⁻)

Menor ou igual a 30 ppb

Partículas maiores ou iguais a 0,2 μm

Menor ou igual a 100 unidades/mL

 

Observação:Todos os dados de teste são baseados em COA (Certificado de Análise) específico do lote.

 

Aplicações (processo úmido de semicondutores)

 

Limpeza de superfície de wafer:Remova íons metálicos residuais, contaminantes inorgânicos e camadas de óxido superficial em wafers de silício, melhore a limpeza da superfície do wafer para processos subsequentes de gravação e deposição.

Gravura úmida de semicondutores:Usado para micro-gravação de precisão de materiais-à base de silício e substratos compostos de semicondutores com taxa de gravação estável e efeito de processamento uniforme.

Preparação da solução de processo:Formule soluções mistas de limpeza e gravação para processos de limpeza RCA, atendendo aos requisitos avançados de fabricação de front-end de semicondutores.

Processo avançado de embalagem e MEMS:Tratamento de superfície e remoção de impurezas para dispositivos MEMS, embalagem de chips e processamento de componentes microeletrônicos.

 

Padrão de embalagem e enchimento

 

Tipo de embalagem:Tambor selado-de HDPE de qualidade limpa/bolsa limpa IBC

Especificação comum:Tambor pequeno de 25kg / 30kg, sacola IBC de 1000kg

Ambiente de enchimento:Sala limpa classe 1000, zero contaminação secundária, introdução de partículas e impurezas estritamente controlada

Padrão de vedação:Embalagem selada profissional-resistente a ácidos, anti-volatilização e anti{2}}vazamento

 

Armazenamento e prazo de validade

 

● Armazenar em local fresco, seco, ventilado e em depósito exclusivo para produtos químicos, manter hermeticamente fechado, longe da luz solar direta, altas temperaturas e fontes de calor.

● Isolar de substâncias alcalinas, oxidantes e produtos químicos orgânicos para evitar reações químicas e contaminação.

● Evite estritamente a colocação aberta-de longo prazo para evitar deterioração volátil e absorção de impurezas.

● Prazo de validade: 12 meses sob condições padrão de armazenamento selado

 

Precauções de manuseio e segurança

 

● O ácido clorídrico é corrosivo e volátil. Os operadores devem usar EPI completo: luvas-resistentes a ácidos, óculos de proteção contra produtos químicos, avental-resistente à corrosão e roupas de proteção.

● Operar em ambiente ventilado; evite a inalação de gases voláteis e o contato direto com a pele e os olhos.

● Operação de diluição: adicione ácido lentamente à água, nunca adicione água ao ácido clorídrico concentrado para evitar respingos e ferimentos.

● Em caso de contato ou vazamento, siga as diretrizes de emergência da SDS para limpeza e descarte em tempo hábil.

● Para classificação completa de perigos, regras de transporte e medidas de primeiros-socorros, consulte o documento SDS oficial.

 

Garantia de qualidade

 

Cada lote de Ácido Clorídrico G4 é produzido e inspecionado de acordo com os padrões internacionais SEMI G4. Cada remessa é acompanhada de um COA oficial do lote. Todos os processos de produção, purificação e enchimento adotam um controle rigoroso-de contaminação em salas limpas para garantir uma qualidade de produto estável e consistente para aplicações-de fabricação de semicondutores de alta tecnologia.

 

Especificação de ácido clorídrico

 

Nome do produto

Nota

Massa molecular relativa

Fórmula molecular

Ácido clorídrico

Produtos químicos eletrônicos G4

36.46

HCl

 

Inspecionar itens

Especificações

Inspecionar itens

Especificações

Aparência

Solução aquosa transparente incolor de cloreto de hidrogênio

Níquel (Ni), ppt

Menor ou igual a 100

Ensaio (HCl),%

36.0~38.0

Cúprico (Cu), ppt

Menor ou igual a 100

Cromaticidade, unidades Hazen

Menor ou igual a 10

Zinco (Zn), ppt

Menor ou igual a 100

Resíduo de queima (base sulfato), ppm

Menor ou igual a 3

Gálio (Ga), ppt

Menor ou igual a 100

cloro livre disponível (Cl), ppb

Menor ou igual a 100

Germânio (Ge), ppt

Menor ou igual a 100

Amônio (NH₄), ppb

Menor ou igual a 100

Arsênico (As), ppt

Menor ou igual a 100

Sulfato (SO₄), ppb

Menor ou igual a 100

Stantium (Sr), ppt

Menor ou igual a 100

Sulfitos (SO₂), ppb

Menor ou igual a 100

Zircônio (Zr), ppt

Menor ou igual a 100

Fosfato (PO₄), ppb

Menor ou igual a 100

Nióbio (Nb), ppt

Menor ou igual a 100

Lítio (Li), ppt

Menor ou igual a 100

Molibdênio (Mo), ppt

Menor ou igual a 100

Berílio (Ser), ppt

Menor ou igual a 100

Prata (Ag), ppt

Menor ou igual a 100

Boro (B), ppt

Menor ou igual a 100

Cádmio (Cd), ppt

Menor ou igual a 100

Sódio (Na), ppt

Menor ou igual a 100

Estanho (Sn), ppt

Menor ou igual a 100

Magnésio (Mg), ppt

Menor ou igual a 100

Bário (Ba), ppt

Menor ou igual a 100

Alumínio (Al), ppt

Menor ou igual a 100

Tântalo (Ta), ppt

Menor ou igual a 100

Potássio (K), ppt

Menor ou igual a 100

Ouro (Au), ppt

Menor ou igual a 100

Cálcio (Ca), ppt

Menor ou igual a 100

Tálio (Tl), ppt

Menor ou igual a 100

Titânio (Ti), ppt

Menor ou igual a 100

Chumbo (Pb), ppt

Menor ou igual a 100

Vanádio (V), ppt

Menor ou igual a 100

Bismuto (Bi), ppt

Menor ou igual a 100

Cromo (Cr), ppt

Menor ou igual a 100

Partículas (maiores ou iguais a 0,2 μm), pcs/mL

Menor ou igual a 300

Manganês (Mn), ppt

Menor ou igual a 100

Partículas (maiores ou iguais a 0,3 μm), pcs/mL

Menor ou igual a 100

Ferro (Fe), ppt

Menor ou igual a 100

Partículas (maiores ou iguais a 0,5 μm), pcs/mL

Menor ou igual a 5

Cobalto (Co), ppt

Menor ou igual a 100

Fim do relatório

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