Identificação do Produto
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Item |
Especificação |
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Nome do produto |
Ácido Clorídrico G4 |
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Categoria de produto |
Químico úmido eletrônico semicondutor |
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Nome Químico |
Ácido clorídrico |
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Fórmula Química |
HCl |
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Nº CAS |
7647-01-0 |
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Peso molecular |
36.46 |
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Número ONU |
1789 |
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Nota |
SEMI G4 Ultra-grau eletrônico de alta pureza |
Visão geral do produto
O ácido clorídrico G4 é um ácido inorgânico de alta-pureza especialmente purificado para fabricação de wafers semicondutores e fabricação de microeletrônica avançada. Produzido por meio de processos de ultra-purificação, filtragem de baixa{4}}contaminação e enchimento de-salas limpas, este produto apresenta íons metálicos com traços ultra-baixos, impurezas aniônicas e micro{7}}partículas, em total conformidade com as especificações do setor SEMI G4.
É um produto químico úmido essencial para processos frontais-de semicondutores, removendo com eficácia contaminantes metálicos, resíduos iônicos e impurezas de óxido em superfícies de wafer. O controle rigoroso de impurezas elimina riscos de micro{2}contaminação, garantindo alto rendimento e desempenho estável para processos avançados de fabricação de chips.
Aparência:Líquido incolor, transparente e límpido com leve odor pungente
Especificações Técnicas (Padrão SEMI G4)
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Item de teste |
Especificação |
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Ensaio de HCl |
36,0 ~ 38,0% em peso |
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Aparência |
Líquido transparente incolor e claro |
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Cor (APHA) |
Menor ou igual a 10 |
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Densidade a 20 graus |
1,18 ~ 1,19g/cm³ |
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Resíduo de Evaporação |
Menor ou igual a 50 ppb |
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Metais traços individuais (Na, K, Ca, Mg, Fe, Cu, Al, Zn, Ni, Cr) |
Menor ou igual a 10 ppb cada |
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Sulfato (SO₄²⁻) |
Menor ou igual a 50 ppb |
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Nitrato (NO₃⁻) |
Menor ou igual a 50 ppb |
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Cloro Livre (Cl₂) |
Menor ou igual a 50 ppb |
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Fosfato (PO₄³⁻) |
Menor ou igual a 30 ppb |
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Partículas maiores ou iguais a 0,2 μm |
Menor ou igual a 100 unidades/mL |
Observação:Todos os dados de teste são baseados em COA (Certificado de Análise) específico do lote.
Aplicações (processo úmido de semicondutores)
Limpeza de superfície de wafer:Remova íons metálicos residuais, contaminantes inorgânicos e camadas de óxido superficial em wafers de silício, melhore a limpeza da superfície do wafer para processos subsequentes de gravação e deposição.
Gravura úmida de semicondutores:Usado para micro-gravação de precisão de materiais-à base de silício e substratos compostos de semicondutores com taxa de gravação estável e efeito de processamento uniforme.
Preparação da solução de processo:Formule soluções mistas de limpeza e gravação para processos de limpeza RCA, atendendo aos requisitos avançados de fabricação de front-end de semicondutores.
Processo avançado de embalagem e MEMS:Tratamento de superfície e remoção de impurezas para dispositivos MEMS, embalagem de chips e processamento de componentes microeletrônicos.
Padrão de embalagem e enchimento
Tipo de embalagem:Tambor selado-de HDPE de qualidade limpa/bolsa limpa IBC
Especificação comum:Tambor pequeno de 25kg / 30kg, sacola IBC de 1000kg
Ambiente de enchimento:Sala limpa classe 1000, zero contaminação secundária, introdução de partículas e impurezas estritamente controlada
Padrão de vedação:Embalagem selada profissional-resistente a ácidos, anti-volatilização e anti{2}}vazamento
Armazenamento e prazo de validade
● Armazenar em local fresco, seco, ventilado e em depósito exclusivo para produtos químicos, manter hermeticamente fechado, longe da luz solar direta, altas temperaturas e fontes de calor.
● Isolar de substâncias alcalinas, oxidantes e produtos químicos orgânicos para evitar reações químicas e contaminação.
● Evite estritamente a colocação aberta-de longo prazo para evitar deterioração volátil e absorção de impurezas.
● Prazo de validade: 12 meses sob condições padrão de armazenamento selado
Precauções de manuseio e segurança
● O ácido clorídrico é corrosivo e volátil. Os operadores devem usar EPI completo: luvas-resistentes a ácidos, óculos de proteção contra produtos químicos, avental-resistente à corrosão e roupas de proteção.
● Operar em ambiente ventilado; evite a inalação de gases voláteis e o contato direto com a pele e os olhos.
● Operação de diluição: adicione ácido lentamente à água, nunca adicione água ao ácido clorídrico concentrado para evitar respingos e ferimentos.
● Em caso de contato ou vazamento, siga as diretrizes de emergência da SDS para limpeza e descarte em tempo hábil.
● Para classificação completa de perigos, regras de transporte e medidas de primeiros-socorros, consulte o documento SDS oficial.
Garantia de qualidade
Cada lote de Ácido Clorídrico G4 é produzido e inspecionado de acordo com os padrões internacionais SEMI G4. Cada remessa é acompanhada de um COA oficial do lote. Todos os processos de produção, purificação e enchimento adotam um controle rigoroso-de contaminação em salas limpas para garantir uma qualidade de produto estável e consistente para aplicações-de fabricação de semicondutores de alta tecnologia.
Especificação de ácido clorídrico
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Nome do produto |
Nota |
Massa molecular relativa |
Fórmula molecular |
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Ácido clorídrico |
Produtos químicos eletrônicos G4 |
36.46 |
HCl |
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Inspecionar itens |
Especificações |
Inspecionar itens |
Especificações |
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Aparência |
Solução aquosa transparente incolor de cloreto de hidrogênio |
Níquel (Ni), ppt |
Menor ou igual a 100 |
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Ensaio (HCl),% |
36.0~38.0 |
Cúprico (Cu), ppt |
Menor ou igual a 100 |
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Cromaticidade, unidades Hazen |
Menor ou igual a 10 |
Zinco (Zn), ppt |
Menor ou igual a 100 |
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Resíduo de queima (base sulfato), ppm |
Menor ou igual a 3 |
Gálio (Ga), ppt |
Menor ou igual a 100 |
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cloro livre disponível (Cl), ppb |
Menor ou igual a 100 |
Germânio (Ge), ppt |
Menor ou igual a 100 |
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Amônio (NH₄), ppb |
Menor ou igual a 100 |
Arsênico (As), ppt |
Menor ou igual a 100 |
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Sulfato (SO₄), ppb |
Menor ou igual a 100 |
Stantium (Sr), ppt |
Menor ou igual a 100 |
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Sulfitos (SO₂), ppb |
Menor ou igual a 100 |
Zircônio (Zr), ppt |
Menor ou igual a 100 |
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Fosfato (PO₄), ppb |
Menor ou igual a 100 |
Nióbio (Nb), ppt |
Menor ou igual a 100 |
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Lítio (Li), ppt |
Menor ou igual a 100 |
Molibdênio (Mo), ppt |
Menor ou igual a 100 |
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Berílio (Ser), ppt |
Menor ou igual a 100 |
Prata (Ag), ppt |
Menor ou igual a 100 |
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Boro (B), ppt |
Menor ou igual a 100 |
Cádmio (Cd), ppt |
Menor ou igual a 100 |
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Sódio (Na), ppt |
Menor ou igual a 100 |
Estanho (Sn), ppt |
Menor ou igual a 100 |
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Magnésio (Mg), ppt |
Menor ou igual a 100 |
Bário (Ba), ppt |
Menor ou igual a 100 |
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Alumínio (Al), ppt |
Menor ou igual a 100 |
Tântalo (Ta), ppt |
Menor ou igual a 100 |
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Potássio (K), ppt |
Menor ou igual a 100 |
Ouro (Au), ppt |
Menor ou igual a 100 |
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Cálcio (Ca), ppt |
Menor ou igual a 100 |
Tálio (Tl), ppt |
Menor ou igual a 100 |
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Titânio (Ti), ppt |
Menor ou igual a 100 |
Chumbo (Pb), ppt |
Menor ou igual a 100 |
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Vanádio (V), ppt |
Menor ou igual a 100 |
Bismuto (Bi), ppt |
Menor ou igual a 100 |
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Cromo (Cr), ppt |
Menor ou igual a 100 |
Partículas (maiores ou iguais a 0,2 μm), pcs/mL |
Menor ou igual a 300 |
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Manganês (Mn), ppt |
Menor ou igual a 100 |
Partículas (maiores ou iguais a 0,3 μm), pcs/mL |
Menor ou igual a 100 |
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Ferro (Fe), ppt |
Menor ou igual a 100 |
Partículas (maiores ou iguais a 0,5 μm), pcs/mL |
Menor ou igual a 5 |
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Cobalto (Co), ppt |
Menor ou igual a 100 |
Fim do relatório |
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